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日立高分辨冷場發(fā)射掃描電鏡SU9000
| 型 號： | SU9000 |
| 所屬分類： | 場發(fā)射掃描電鏡 |
| 報 價： |  |
日立高分辨冷場發(fā)射掃描電鏡SU9000SU9000是世界上二次電子分辨率（0.4nm@30kV）和STEM分辨率（0.34nm@30kV）的掃描電鏡。它采取了*的真空系統(tǒng)和電子光學系統(tǒng)，不僅分辨率性能優(yōu)異，而且作為冷場發(fā)射掃描電鏡甚至不需要傳統(tǒng)意義上的Flashing操作，可以快速穩(wěn)定的進行超高分辨成像。
日立高分辨冷場發(fā)射掃描電鏡SU9000產品概述：
日立高分辨冷場發(fā)射掃描電鏡SU9000
SU9000是世界上二次電子分辨率（0.4nm@30kV）和STEM分辨率（0.34nm@30kV）的掃描電鏡。它采取了*的真空系統(tǒng)和電子光學系統(tǒng)，不僅分辨率性能優(yōu)異，而且作為冷場發(fā)射掃描電鏡甚至不需要傳統(tǒng)意義上的Flashing操作，可以快速穩(wěn)定的進行超高分辨成像。
日立高分辨冷場發(fā)射掃描電鏡SU9000
主要特點：
1. 新型電子光學系統(tǒng)設計達到掃描電鏡世界高分辨率：二次電子0.4nm（30KV），STEM 0.34nm（30KV）。
2. 用改良的高真空性能和的電子束穩(wěn)定性來實現(xiàn)高效率截面觀察。
3. 采用全新設計的Super E x B能量過濾技術，高效，靈活地收集SE / BSE/ STEM信號。
應用領域：
1. 半導體器件
2. 高分子材料
3. 納米材料
4. 生命科學
